[发明专利]具有孔口样式及多个光阱微坑的多孔成形薄膜有效
| 申请号： | 201380054020.0 | 申请日： | 2013-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN104717947B | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | R·J·赛勒;P·E·托马斯;A·D·马斯奇诺 | 申请（专利权）人： | 屈德加薄膜产品股份有限公司 |
| 主分类号： | A61F13/511 | 分类号： | A61F13/511;A61F13/512;A61F13/513;A61F13/15 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱立鸣 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种多孔薄膜及其制造方法，其通过使用以随机样式均匀分布在薄膜平坦部上的光阱微坑而具有降低的光泽度。 | ||
| 搜索关键词： | 光阱 微坑 样式 多孔成形薄膜 多孔薄膜 光泽度 平坦部 孔口 薄膜 制造 | ||
【主权项】：
一种多孔薄膜，所述多孔薄膜包括多孔薄膜表面区域，所述多孔薄膜表面区域包括孔口的样式以及围绕所述孔口的平坦部，所述平坦部包括平坦区域；所述平坦区域包括多个光阱微坑以及总反射区域，每个所述光阱微坑包括开口，所述开口带有从所述开口降至底部的侧壁；其中，每个所述光阱微坑的所述开口包括具有平均直径的不规则周边与深度，所述深度大于所述光阱微坑的所述平均直径的一半除以tan37.5°，其中，所述多孔薄膜表面区域包括在所述多孔薄膜的机器方向中的小于4.0的75°光泽度。
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