[发明专利]沉积无氟/碳保形钨的方法在审

专利信息
申请号: 201380054229.7 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN104737275A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 傅新宇;斯里尼瓦斯·甘迪科塔;阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯;阿蒂夫·努里;张镁;戴维·汤普森;史蒂夫·G·加奈耶姆 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/205 分类号: H01L21/205
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供使用含钨反应气体沉积钨膜或含钨膜的原子层沉积方法,所述含钨反应气体包含以下的一或多种:五氯化钨、具有经验式WCl5或WCl6的化合物。
搜索关键词: 沉积 碳保形钨 方法
【主权项】:
一种处理方法,包含以下步骤:将基板顺序地暴露至第一反应气体及第二反应气体以形成含钨膜,所述第一反应气体包含含钨化合物,所述含钨化合物包含具有经验式WxCl5x的化合物。
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