[发明专利]光吸收层系统、其生产及适用于其的溅射靶材在审

专利信息
申请号: 201380055571.9 申请日: 2013-10-15
公开(公告)号: CN104919340A 公开(公告)日: 2015-09-16
发明(设计)人: 马丁·施洛特;阿尔伯特·卡斯特纳;马库斯·舒尔特海斯;詹斯·瓦格纳;扎比内·施奈德-贝茨;伯恩德·西斯泽卡;威尔玛·德瓦尔德 申请(专利权)人: 贺利氏德国有限及两合公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会
主分类号: G02B1/116 分类号: G02B1/116;G02B5/22;G02B5/00;F24J2/46;F24J2/48;C23C14/34
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张天舒;张杰
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种光吸收层系统,其包括至少两个层,其中一个层为由介电材料制成的面向观测者的抗反射层,且其中至少一个其他层为由具有亚化学计量氧含量的氧化物或氮氧化物制成的背对所述观测者的吸收层。所述层系统在380nm至780nm的波长范围内具有大体上小于20%的可视透射Tv、小于6%的可视反射Rv和超过10k Ohm的层电阻Rγ。
搜索关键词: 光吸收 系统 生产 适用于 溅射
【主权项】:
一种光吸收层系统,其由至少两个层组成,其中一个层为抗反射层,其面向观测者且由介电材料制成,且至少一个其它层为背对所述观测者的吸收层,其由具有亚化学计量氧含量的氧化物或氮氧化物制成,其中在380nm与780nm的波长范围内,所述层系统大体上具有小于20%的可视透射Tv、小于6%的可视反射Rv和超过10k Ohm的层电阻Rγ。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贺利氏德国有限及两合公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会,未经贺利氏德国有限及两合公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380055571.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top