[发明专利]用于监测开关模式离子能量分布系统的故障、异常和其它特性的系统和方法无效
申请号: | 201380056048.8 | 申请日: | 2013-08-26 |
公开(公告)号: | CN104769707A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | D·卡特;V·布劳克;D·J·霍夫曼 | 申请(专利权)人: | 先进能源工业公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 林金朝;王英 |
地址: | 美国科*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了用于调节等离子体腔中的离子能量并且将衬底夹紧到衬底支撑件的系统、方法和设备。示例性方法包括:将衬底放置在等离子体腔中;在等离子体腔中形成等离子体;可控地切换至衬底的功率以向衬底施加周期性电压函数(或修正周期性电压函数);以及响应于衬底表面的离子的限定的能量分布而在周期性电压函数的多个周期上调制周期性电压函数,以在时间平均的基础上实现限定的离子能量分布。 | ||
搜索关键词: | 用于 监测 开关 模式 离子 能量 分布 系统 故障 异常 其它 特性 方法 | ||
【主权项】:
一种用于监测等离子体处理腔的系统,所述系统包括:被配置为包含等离子体的等离子体处理腔;衬底支撑件,其被置于所述等离子体处理腔内并且被设置为支撑衬底;离子能量控制部分,所述离子能量控制部分响应于指示所述衬底的表面处的期望的离子能量分布的至少一个离子能量分布设定而提供至少一个离子能量控制信号;耦合到所述衬底支撑件和所述离子能量控制部分的开关模式电源,所述开关模式电源包括被配置为向所述衬底施加作为周期性电压函数的功率的一个或多个开关部件;耦合到所述衬底支撑件的离子电流补偿部件,所述离子电流补偿部件将离子补偿电流添加到所述周期性电压函数,以形成修正周期性电压函数;以及耦合到所述衬底支撑件的控制器,所述控制器根据所述离子补偿电流来确定所述等离子体处理腔中的离子电流并且将所述离子电流与参考电流波形进行比较。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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