[发明专利]用于制造集成在基底中的或施加在基底上的线圈的方法以及电子装置有效
| 申请号： | 201380056559.X | 申请日： | 2013-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN104756611B | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | J·科斯德尼克;A·施莱沃格尔;A·基斯林;M·吉奥索夫 | 申请（专利权）人： | 费斯托股份有限两合公司 |
| 主分类号： | H05K1/16 | 分类号： | H05K1/16;H01F5/00;H05K3/46;H03K17/95 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 德国埃*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造集成在基底(100)中的线圈(140)的方法，具有以下步骤：在基底中产生空穴，该空穴具有打开侧，基底的一个表面通过所述打开侧中断；将具有铁磁颗粒的膏引入到空穴中以便制造线圈核芯；通过施加用于桥接基底表面的中断的覆盖层来关闭空穴；引入线圈的第一绕组部段，该第一绕组部段垂直于所述表面，其中第一绕组部段中的多个或所有的走向通过位于空穴中的线圈核芯；施加线圈的第二绕组部段到基底的表面上，其中第二绕组部段接触第一绕组部段，以便实现线圈的绕组。 | ||
| 搜索关键词： | 绕组部段 空穴 基底 施加 核芯 制造 电子装置 基底表面 铁磁颗粒 中断 引入 覆盖层 桥接 垂直 | ||
【主权项】：
1.一种方法，其用于制造在基底(100)中集成的线圈(140)，具有以下步骤：‑将核芯材料(116)引入到所述基底(100)的空穴(106)中；‑将所述线圈(140)的第一绕组部段(136)引入到所述核芯材料(116)中，所述第一绕组部段(136)的走向通过所述核芯材料(116)；‑施加所述线圈(140)的第二绕组部段(138)，其中所述第二绕组部段(138)接触所述第一绕组部段(136)，以便实现所述线圈(140)的绕组。
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