[发明专利]形成在基材上的构造体、构造体的制造方法和线图案在审

专利信息
申请号: 201380056926.6 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN104781017A 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 明渡纯;远藤聪人 申请(专利权)人: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
主分类号: B05D1/26 分类号: B05D1/26;B05D3/02;H05K3/10
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 郭放;许伟群
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种能够抑制墨水向基材上的描绘线的宽度方向的润湿扩展,并实现高的高宽比的构造体、该构造体的制造方法和线图案。本发明提供一种构造体(10),具备:液滴重叠固化层(1),其通过使液滴在基材(50)的移动方向上倾斜并连续地重合而固化所构成;液滴流动固化层(3),其通过使所述液滴在所述液滴重叠固化层(1)上流动,且所述液滴不重叠地连续而固化所构成;凹陷部(5),形成在所述液滴重叠固化层(1)与所述液滴流动固化层(3)的边界区域。
搜索关键词: 形成 基材 构造 制造 方法 线图
【主权项】:
一种构造体,其特征在于,具备:液滴重叠固化层,其通过使液滴在基材的移动方向上倾斜并连续地重叠而固化所构成;液滴流动固化层,其通过使所述液滴在所述液滴重叠固化层上流动,所述液滴不重叠而连续地固化所构成;以及凹陷部,形成在所述液滴重叠固化层与所述液滴流动固化层的边界区域。
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