[发明专利]使衍射能够受控的光刻照射设备有效
| 申请号： | 201380057302.6 | 申请日： | 2013-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN104969128B | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | B·普兰尚;R·梅西耶伊捷 | 申请（专利权）人： | 萨基姆防务安全公司;上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司11314 | 代理人： | 程伟,王锦阳 |
| 地址： | 法国布洛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻照射器设备，其包括光束光源；聚光器(5)；光均化系统(4)，其包括至少一个微透镜阵列，所述系统布置在聚光器的上游；以及快门(3)，其布置在光均化系统的物方焦点处，所述照射器的特征在于，其进一步包括孔径光阑网络(8)，所述孔径光阑网络(8)布置在快门(3)的平面的傅里叶变换平面上。本发明同样涉及包括这种照射器的光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 能够 受控 光刻 照射 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻设备照射器，包括：‑光束的光源(1’)，‑聚光器(5)，‑光均化系统(4)，其包括至少一个微透镜阵列(L3、L4)，所述系统定位于所述聚光器的上游，‑快门(3)，其定位于所述光均化系统的物方焦点处，并且所述照射器的特征在于，其进一步包括孔径光阑网络(8)，所述孔径光阑网络(8)定位于所述快门(3)的平面的傅里叶变换平面上。
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