[发明专利]原料气化供给装置在审
申请号: | 201380057690.8 | 申请日: | 2013-11-20 |
公开(公告)号: | CN104822858A | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
发明(设计)人: | 日高敦志;永濑正明;山下哲;西野功二;池田信一 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士金 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;H01L21/31 |
代理公司: | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 刘春成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及原料气化供给装置,无论是固体原料还是液体原料,都是使几乎全部原料气体不发生热分解地成为期望的高温、高蒸气压的原料气体,从而能够将高纯度且达到期望浓度的原料气体以高精度进行流量控制同时向处理腔稳定地供给。本发明的原料气化供给装置由原料收纳罐、对从液体收纳罐压送而来的液体进行气化的气化器、对来自气化器的原料气体的流量进行调整的流量控制装置、以及对气化器、高温型压力式流量控制装置及与气化器和高温型压力式流量控制装置连接的流路的期望部分进行加热的加热装置构成,至少针对所述原料收纳罐、气化器、流量控制装置、将所述各设备装置之间加以连结的流路以及介设于流路中的开闭阀中的任一个的金属表面的各液体接触部或气体接触部,实施了Al2O3钝化处理或Cr2O3钝化处理或FeF2钝化处理。 | ||
搜索关键词: | 原料 气化 供给 装置 | ||
【主权项】:
一种原料气化供给装置,具备:原料收纳罐、对从原料收纳罐压送而来的液体进行气化的气化器、对来自气化器的原料气体的流量进行调整的流量控制装置、以及对气化器、流量控制装置及与气化器和流量控制装置连接的流路的期望部分进行加热的加热装置,其特征在于,至少针对所述原料收纳罐、气化器、流量控制装置、将所述各设备装置之间加以连结的流路以及介设于该流路中的开闭阀中的任一个的金属表面的各液体接触部或气体接触部,实施了钝化处理。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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