[发明专利]透明导电膜层叠体及其制造方法、以及薄膜太阳能电池及其制造方法

摘要

本发明提供在制造高效率的硅系薄膜太阳能电池时作为表面电极有用的、具有光散射性优异的凹凸结构、光限制效应也优异的透明导电膜层叠体及其制造方法、以及使用了该透明导电膜层叠体的薄膜太阳能电池及其制造方法。透明导电膜层叠体具有如下结构并且其表面为凹部以及凸部混合存在的晶体组织，表面粗糙度(Ra)为30nm以上且雾度率为8％以上、并且电阻值为30Ω/□以下，所述结构具备膜厚为10nm以上且300nm以下的氧化铟系透明导电膜(I)、以及膜厚为200nm以上的氧化锌系透明导电膜(II)。

主权项

一种透明导电膜层叠体，其特征在于，具有如下结构并且其表面为凹部以及凸部混合存在的晶体组织，表面粗糙度Ra为30nm以上、雾度率为8％以上、并且电阻值为30Ω/□以下，所述结构具备膜厚为10nm以上且300nm以下的氧化铟系透明导电膜(I)、以及膜厚为200nm以上的氧化锌系透明导电膜(II)。