[发明专利]硬掩膜组合物、用于其的单体及使用其形成图案的方法有效

专利信息
申请号: 201380059123.6 申请日: 2013-10-02
公开(公告)号: CN104823106B 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 辛乘旭;金润俊;金惠廷;赵娟振;崔有廷 申请(专利权)人: 第一毛织株式会社
主分类号: C07C65/40 分类号: C07C65/40;G03F7/16;G03F7/11;G03F7/40;G03F7/004;C07C63/26;G03F7/075;G03F7/09;C07C65/32;G03F7/26;C07C63/15;C07C65/34;G03F1/00;G03F7/30
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 韩国庆尚北道龟尾市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明是关于一种由化学式1表示的用于硬掩膜组合物的单体、一种含有单体的硬掩膜组合物、以及一种使用硬掩膜组合物的图案形成方法。在上述的化学式1中,A、A′、L、L′、X以及n与说明书中所定义的相同。所述用于硬掩膜组合物的单体具有优良的抗化学性以及抗蚀刻性,不会产生逸出气体。
搜索关键词: 硬掩膜 组合 用于 单体 使用 形成 图案 方法
【主权项】:
一种用于硬掩膜组合物的单体,以下列化学式1表示:[化学式1]其中,在上述化学式1中,A及A’各自独立地表示经取代或未经取代的C5至C60的芳香族环基、经取代或未经取代的C5至C60的脂肪族环基、经取代或未经取代的C2至C60的芳香族杂环基、经取代或未经取代的C2至C60的脂肪族杂环基或其组合,X为氢原子、氧原子、卤素原子、羟基、亚硫酰基、硫醇基、氰基、经取代或未经取代的氨基、经取代或未经取代的C1至C30的烷基、经取代或未经取代的C1至C20的烷胺基,或经取代或未经取代的C1至C30的烷氧基,L为单键或双键,L′为单键,或经取代或未经取代的C1至C6的亚烷基,以及n为1至3的整数。若当所述X为氧原子时,所述L为双键,若当所述X为氢原子、卤素原子、羟基、亚硫酰基、硫醇基、氰基、经取代或未经取代的氨基、经取代或未经取代的C1至C30的烷基、经取代或未经取代的C1至C20的烷胺基,或经取代或未经取代的C1至C30的烷氧基时,L为单键。
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