[发明专利]位置测量系统、用于位置测量系统的光栅、以及方法有效

专利信息
申请号: 201380060209.0 申请日: 2013-11-08
公开(公告)号: CN104797983A 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: W·H·G·A·凯南 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G01D5/347;G03F7/20;G02B5/18
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于位置测量系统的光栅,该光栅包括第一方向上的光栅线的第一阵列和第二方向上的光栅线的第二阵列。第一和第二阵列将入射在第一和第二阵列上的测量束衍射为第一方向上的至少一个第一衍射束和第二方向上的至少一个第二衍射束。至少一个第一衍射束用于第一方向上的位置测量,并且至少一个第二衍射束用于第二方向上的位置测量。测量束具有功率量,并且光栅被配置为将功率量非均匀地分布在至少一个第一衍射束和至少一个第二衍射束之上。
搜索关键词: 位置 测量 系统 用于 光栅 以及 方法
【主权项】:
一种位置测量系统,被配置为确定第一物体相对于第二物体的位置,包括:编码器头,安装在所述第一物体上,光栅,安装在所述第二物体上,其中所述光栅包括第一方向上的光栅线的第一阵列和第二方向上的光栅线的第二阵列,以将入射在所述第一阵列和所述第二阵列上的测量束衍射为所述第一方向上的至少一个第一衍射束和所述第二方向上的至少一个第二衍射束,其中所述至少一个第一衍射束用于所述第一方向上的位置测量并且其中所述至少一个第二衍射束用于所述第二方向上的位置测量,其中所述测量束具有功率量,并且其中所述光栅被配置为将所述功率量非均匀地分布在所述至少一个第一衍射束和所述至少一个第二衍射束之上。
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