[发明专利]半导体材料有效

专利信息
申请号: 201380061381.8 申请日: 2013-10-02
公开(公告)号: CN104813441B 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 门诺·卡珀斯;朱丹丹 申请(专利权)人: 因特莱克有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张英;宫传芝
地址: 英国普*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 发明涉及一种半导体晶片,包括:衬底;在该衬底上的第一AlGaN层;在该第一AlGaN层上的第二AlGaN层;在该第二AlGaN层上的GaN层;以及在该第一AlGaN层和第二AlGaN层之间的多个晶体GaN岛。
搜索关键词: 衬底 半导体材料 半导体晶片
【主权项】:
1.一种半导体晶片,作为用于形成发光二极管或太阳能电池的支撑物使用,由以下组成:硅衬底;所述硅衬底上的AlN层;在所述AlN层上的第一AlGaN层;在所述第一AlGaN层上的第二AlGaN层;在所述第二AlGaN层上的GaN层;以及在所述第一AlGaN层和所述第二AlGaN层之间的多个晶体GaN岛;其特征在于,所述第一AlGaN层包括Alx(Ga)(1‑x)N,其中,x在0.6>x>0.4的范围内;和所述第二AlGaN层包括Aly(Ga)(1‑y)N,其中,y在0.4>y>0.1的范围内。
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