[发明专利]氯的制备方法无效
申请号: | 201380061857.8 | 申请日: | 2013-11-15 |
公开(公告)号: | CN104797522A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 西本纯一 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C01B7/04 | 分类号: | C01B7/04;B01J23/46 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 梅黎;刘力 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供即使使用含有硫成分的氯化氢、氧,也可以长时间稳定地维持催化剂活性、能够良好地持续氧化反应的氯的制备方法。通过使含有氯化氢、氧和硫成分的混合气体、与在二氧化钛载体上担载有氧化钌和二氧化硅的担载氧化钌接触,而将上述混合气体中的氯化氢用氧进行氧化来制备氯的方法,其中,上述担载氧化钌通过将二氧化钛载体与烷氧基硅烷化合物进行接触处理后,在含水蒸气的气体流通下进行干燥,接着在氧化性气体气氛下进行第1煅烧,将得到的在二氧化钛载体上担载有二氧化硅的固体与钌化合物进行接触处理后,在氧化性气体气氛下进行第2煅烧而得到。 | ||
搜索关键词: | 制备 方法 | ||
【主权项】:
氯的制备方法,其是通过使含有氯化氢、氧和硫成分的混合气体、与在二氧化钛载体上担载有氧化钌和二氧化硅的担载氧化钌接触,而将上述混合气体中的氯化氢用氧进行氧化来制备氯的方法,其中,上述担载氧化钌通过将二氧化钛载体与烷氧基硅烷化合物进行接触处理后,在含水蒸气的气体流通下进行干燥,接着在氧化性气体气氛下进行第1煅烧,将得到的在二氧化钛载体上担载有二氧化硅的固体与钌化合物进行接触处理后,在氧化性气体气氛下进行第2煅烧而得到。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380061857.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:石墨烯合成装置
- 下一篇:用电子束辐照物体的装置和方法