[发明专利]聚焦粒子束有效
| 申请号： | 201380062126.5 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN104813748B | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | K.P.高尔;G.T.兹瓦特;J.范德兰;C.D.奥尼尔三世;K.Y.弗兰岑 | 申请（专利权）人： | 梅维昂医疗系统股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H7/10 | 分类号： | H05H7/10;H05H7/18;H05H13/02;H05H7/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 曲莹 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种示例性粒子加速器包括下列各项：粒子在其中加速的谐振腔，其中，所述谐振腔具有背景磁场，所述背景磁场具有第一形状；以及，用于接收从所述谐振腔输出的粒子的引出通道。所述引出通道包括一系列的聚焦区域以聚焦所接收粒子的束流。至少一个所述聚焦区域是构造为在磁场梯度的存在下将所述背景磁场的形状改变到第二形状的聚焦元件，所述第二形状与第一形状基本相反，所述磁场梯度是由背景磁场从所述谐振腔到引出通道的减少产生的。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 粒子束 | ||
【主权项】：
1.一种粒子加速器，包括：粒子在其中加速的谐振腔，所述谐振腔具有背景磁场，所述背景磁场具有形状，所述背景磁场是至少6特斯拉；以及用于接收从所述谐振腔输出的粒子的引出通道，所述引出通道包括一系列的聚焦区域以聚焦所接收粒子的束流，其中，至少一个所述聚焦区域包括构造为在磁场梯度的存在下改变所述背景磁场的形状的聚焦元件，所述磁场梯度是由背景磁场从所述谐振腔到引出通道的减少产生的，其中所述聚焦元件包括：铁磁四极，所述铁磁四极改变磁场，使得所述磁场在与背景磁场基本相对的方向上弯曲；和磁场消减器，所述磁场消减器吸收周围的磁场通量，以改变磁场的形状，其中通过所述铁磁四极和所述磁场消减器，从而将背景磁场的形状改变成在与背景磁场基本相对的方向上弯曲的形状。
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