[发明专利]平移X射线射束发射分布图整形器有效
申请号: | 201380063140.7 | 申请日: | 2013-11-18 |
公开(公告)号: | CN104837406B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | O·奥弗;O·扎尔钦 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/06;G21K1/04 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种成像系统(300),包括:辐射源(308),其在扫描期间发出在检查区域的方向中穿过的辐射;以及探测器阵列(316),其定位为在所述检查区域的对侧与所述辐射源相对,所述探测器阵列在所述扫描期间探测穿过所述检查区域的辐射并且产生指示所述辐射的信号。射束整形器(318)定位于所述辐射源与所述检查区域之间,所述射束整形器限定穿过所述检查区域的辐射射束的通量强度分布图。所述射束整形器包括多个X射线衰减元件(326),所述多个X射线衰减元件对入射于其上的X射线进行衰减,所述多个X射线衰减元件与多个无材料区域交错,所述多个无材料区域使X射线不被衰减地通过。所述X射线的透射在较接近所述射束整形器的中心区域相对于所述射束整形器的端部区域更大。射束整形器移动器(328)在所述扫描的至少一个采集间隔期间平移所述射束整形器。 | ||
搜索关键词: | 平移 射线 束发 分布图 整形 | ||
【主权项】:
一种成像系统(300),包括:辐射源(308),其在扫描期间发出在检查区域的方向中穿过的辐射;探测器阵列(316),其定位为在所述检查区域的对侧与所述辐射源相对,所述探测器阵列在所述扫描期间探测穿过所述检查区域的辐射并且产生指示所述辐射的信号;射束整形器(318),其定位于所述辐射源与所述检查区域之间,所述射束整形器限定穿过所述检查区域的辐射射束的通量强度分布图,其中,所述射束整形器包括多个X射线衰减元件(326),所述多个X射线衰减元件对入射于其上的X射线进行衰减,所述多个X射线衰减元件与多个无材料区域交错,所述多个无材料区域使X射线不被衰减地通过,并且其中,所述X射线的透射在较接近所述射束整形器的中心区域相对于所述射束整形器的端部区域更大;以及射束整形器移动器(328),其在所述扫描的至少一个采集间隔期间平移所述射束整形器。
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