[发明专利]遮光薄膜在审
申请号: | 201380063849.7 | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN104837899A | 公开(公告)日: | 2015-08-12 |
发明(设计)人: | 神本哲男;石间洋辅;大石真弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社ADEKA |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08K5/3492;C08L101/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种遮光薄膜,其使用低添加量的紫外线吸收剂可以有效对380nm~400nm的长波长区域的紫外线进行遮光。一种遮光薄膜,其特征在于,其通过作为紫外线吸收剂含有下述通式(1)所示的三嗪系化合物中的一种以上、或者涂布该三嗪系化合物得到。(式中,R1~R3可以彼此相同或不同,表示碳数1~12的直链或支链的烷基等。其中,这些烷基等也可以被羟基等取代,也可以被氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或亚氨基中断。另外,上述取代和中断也可以组合。R4~R6可以彼此相同或不同,表示碳数1~8的烷基或碳数2~8的烯基)。 |
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搜索关键词: | 遮光 薄膜 | ||
【主权项】:
一种遮光薄膜,其特征在于,其通过作为紫外线吸收剂含有下述通式(1)所示的三嗪系化合物中的一种以上、或者涂布该三嗪系化合物得到,
式(1)中,R1~R3可以彼此相同或不同,表示碳数1~12的直链或支链的烷基、碳数3~8的环烷基、碳数2~8的烯基、碳数6~18的芳基、碳数7~18的烷基芳基或碳数7~18的芳基烷基,其中,这些烷基、环烷基、烯基、芳基、烷基芳基或芳基烷基任选被羟基、卤素原子、碳数1~12的烷基或烷氧基取代,也任选被氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或亚氨基中断,另外,所述取代和中断也可以组合;R4~R6可以彼此相同或不同,表示碳数1~8的烷基或碳数2~8的烯基。
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