[发明专利]用于光刻设备的衬底支撑件和光刻设备在审
| 申请号： | 201380065901.2 | 申请日： | 2013-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN104937494A | 公开（公告）日： | 2015-09-23 |
| 发明（设计）人： | E·阿勒马克;A·考沃埃特斯;R·拉法尔;N·坦凯特;C·路吉腾;H-K·尼恩惠斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于将EUV辐射束投影到衬底(400)的目标部分上的所述类型的设备的衬底支撑件。该衬底支撑件包括：构造成保持衬底的衬底台；用于支撑衬底台的支撑块(420)；以及设置成围绕衬底台的盖板(450’)。盖板的顶表面和安装在衬底台上的衬底的顶表面都大致处于同一高度水平。至少一个传感器单元(430)定位在衬底支撑件上，并且其顶表面也处于与盖板和衬底的顶表面相同的高度水平上。另外，公开了一种包括这样的衬底支撑件的EUV光刻设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 衬底 支撑 | ||
【主权项】：
一种衬底支撑件，所述衬底支撑件用于将具有在EUV范围内的波长或更小波长的辐射束投影到衬底的目标部分上的类型的设备，所述衬底支撑件包括：衬底台，构造成保持衬底；支撑块，配置成支撑所述衬底台；至少一个传感器单元；和盖板，被设置成围绕所述衬底台和所述至少一个传感器单元，所述盖板定位和配置成导致对于在所述衬底台上的气流的阻力增大。
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