[发明专利]缺陷观察方法以及缺陷观察装置有效

专利信息
申请号: 201380066389.3 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN104870985A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 平井大博;中垣亮;原田实 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N23/225 分类号: G01N23/225;H01L21/66
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 范胜杰;曹鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在未形成图案的阶段的制造工序或在摄像图像上不显示在下层形成的图案的制造工序中,用于解析缺陷的事例增加。然而,在这样的事例中,在图像上无法识别周期性图案的情况下,存在不能合成良好的参照图像,缺陷检测失败的问题。因此,求出在被检查图像中缺陷区域所占的比例即缺陷占有率,判定该缺陷占有率与阈值的大小,根据判定结果,决定是否生成由具有被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。尤其在缺陷占有率低的情况下,采用由具有被检查图像所包含的多个像素的亮度值的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
搜索关键词: 缺陷 观察 方法 以及 装置
【主权项】:
一种缺陷观察装置,其通过比较被检查图像与参照图像来检测所述被检查图像所包含的缺陷区域,该缺陷观察装置的特征在于,具备:缺陷占有率判定处理部,其求出所述被检查图像中缺陷区域所占的比例即缺陷占有率,并判定该缺陷占有率与阈值的大小,根据所述判定的结果来决定是否生成由具有所述被检查图像所包含的多个像素的平均亮度值的像素构成的图像作为所述参照图像。
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