[发明专利]玻璃基板表面的异物去除方法在审

专利信息
申请号: 201380066636.X 申请日: 2013-12-18
公开(公告)号: CN104870390A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 堀江满;木村宏 申请(专利权)人: 旭硝子株式会社
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;C03C19/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡烨;金明花
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种适合去除用浮法制造的玻璃基板表面上存在的渣滓、尤其是模具残留渣的方法。本发明玻璃基板表面的异物去除方法的特征在于,对用浮法制造的玻璃基板的与熔融金属浴的接触面供给含有选自氯离子、碘离子、溴离子、氟离子、以及硫酸根离子中的至少1种离子的pH3以下的无机酸水溶液,和选自锌、铁以及铝中的至少1种金属,使上述无机酸以及上述金属的每单位面积的供给量分别达到1g/m2以上,对该面进行蚀刻处理后,对该经蚀刻处理的面进行机械研磨或化学机械研磨,使研磨量为0.1μm以上2μm以下。
搜索关键词: 玻璃 表面 异物 去除 方法
【主权项】:
一种玻璃基板表面的异物去除方法,其特征在于,对用浮法制造的玻璃基板的与熔融金属浴的接触面供给含有选自氯离子、碘离子、溴离子、氟离子、以及硫酸根离子中至少1种离子的pH3以下的无机酸水溶液,和选自锌、铁以及铝中的至少1种金属,使所述无机酸水溶液以及所述金属的每单位面积的供给量分别达到1g/m2以上,对该面进行蚀刻处理后,对该经蚀刻处理的面进行机械研磨或化学机械研磨,使研磨量为0.1μm以上2μm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社,未经旭硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380066636.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top