[发明专利]作为BACE抑制剂的C5,C6氧杂环稠合的亚胺基噻嗪二氧化物化合物，组合物及其用途

摘要

本发明在其许多实施方案中提供了某些C2-环取代的亚胺基噻嗪化合物，包括式(I)化合物、或其互变异构体，以及所述化合物的可药用盐，其中R¹、R²、R³、R⁴、X、环A、R^A、m、-L₁-和R^L如本申请所定义。本发明的新的化合物可用作BACE抑制剂和/或用于治疗和预防与其相关的各种病变。药物本发明还公开了包含一种或多种此化合物(单独地或者与一种或多种其他活性剂组合)的药物组合物，以及此化合物的制备和使用方法，包括用于可能用于阿尔兹海默病的用途。

主权项

化合物或其可药用盐，所述化合物具有结构式(I)：或其具有结构式(I’)的互变异构体：或所述互变异构体的可药用盐，其中：X选自‑O‑、‑C(R^4H)₂O‑和‑OC(R^4H)₂‑；R¹独立地选自：H、卤素、烷基、杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基，其中R¹中中的各所述烷基、杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基为任选未经取代或经一个或多个卤素取代；R²选自H、卤素、烷基和杂烷基，其中R²中的所述烷基和杂烷基为各自任选未经取代或经一个或多个卤素取代；或可选择地，R²为具有式的基团，其中k为0或1；‑L_C‑如果存在，则为选自以下的二价基团：低级烷基和低级杂烷基，其中各所述低级烷基和低级杂烷基任选经一个或多个卤素取代；环C如果存在，则选自芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基和杂环烯基；n为0或更大；和各R^C如果存在，则独立地选自：卤素、氧代、‑OH、‑CN、‑SF₅、‑OSF₅、‑Si(R^5C)₃、‑N(R^6C)₂、‑NR^7CC(O)R^6C、‑NR^7CS(O)₂R^6C、‑NR^7CS(O)₂N(R^6C)₂、‑NR^7CC(O)N(R^6C)₂、‑NR^7CC(O)OR^6C、‑C(O)R^6C、‑C(O)₂R^6C、‑C(O)N(R^6C)₂、‑S(O)R^6C、‑S(O)₂R^6C、‑S(O)₂N(R^6C)₂、‑OR^6C、‑SR^6C、烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基，其中R^C中的所述烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基为各自任选独立地未经取代的或经一个或多个独立选自R⁸的基团取代；R³选自H、卤素、低级烷基和低级杂烷基，其中所述低级烷基和低级杂烷基为各自任选未经取代或经一个或多个卤素取代；各R⁴独立地选自H、卤素、‑烷基‑OH、烷基、杂烷基、烷氧基和环烷基，其中R⁴中的各所述烷基、杂烷基、烷氧基和环烷基任选经卤素取代，条件是当R⁴连接至与环氧原子相邻的环碳原子时，所述R⁴选自R^4H；R^4H如果存在，则选自H、‑烷基‑OH、烷基、杂烷基和环烷基，其中R^4H中的各所述烷基、杂烷基和环烷基任选经卤素取代；环A选自芳基和杂芳基；m为0或更大；各R^A如果存在，则独立地选自：卤素、氧代、‑OH、‑CN、‑SF₅、‑OSF₅、‑Si(R^5A)₃、‑N(R^6A)₂、‑OR^6A、‑SR^6A、烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基，其中R^A中的所述烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基为各自任选独立地未经取代或经一个或多个独立选自R⁸的基团取代；‑L₁‑为选自以下的二价基团：‑NHC(O)‑和‑C(O)NH‑；R^L选自烷基和杂烷基，其中R^L中的所述烷基和杂烷基为各自任选未经取代或经一个或多个卤素取代；或者，可选择地，R^L为具有下式的基团：其中q为0或1；‑L_B‑如果存在，则为选自以下的二价基团：低级烷基和低级杂烷基，其中各所述低级烷基和低级杂烷基任选经一个或多个卤素取代；环B选自芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基和杂环烯基；p为0或更大；且各R^B如果存在，则独立地选自：卤素、氧代、‑OH、‑CN、‑SF₅、‑OSF₅、‑Si(R^5B)₃、‑N(R^6B)₂、‑NR^7BC(O)R^6B、‑NR^7BS(O)₂R^6B、‑NR^7BS(O)₂N(R^6B)₂、‑NR^7BC(O)N(R^6B)₂、‑NR^7BC(O)OR^6B、‑C(O)R^6B、‑C(O)OR^6B、‑C(O)N(R^6B)₂、‑S(O)R^6B、‑S(O)₂R^6B、‑S(O)₂N(R^6B)₂、‑OR^6B、‑SR^6B、烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、芳基、‑烷基‑芳基、杂芳基和‑烷基‑杂芳基，其中R^B中的所述烷基、杂烷基、烯基、炔基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、芳基、‑烷基‑芳基、杂芳基和‑烷基‑杂芳基各自为任选独立地未经取代的或经一个或多个独立地选自R⁹的基团取代；各R^5A、R^5B和R^5C如果存在，则独立地选自烷基、杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基，其中R^5A、R^5B和R^5C中的各所述烷基、杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基为未经取代的或经一个或多个卤素取代；各R^6A和R^6C如果存在，则独立地选自H、烷基、‑烷基‑OH、烯基、炔基、杂烷基、‑杂烷基‑OH、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基，其中R^6A和R^6C各所述烷基、‑烷基‑OH、烯基、炔基、杂烷基、‑杂烷基‑OH、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、芳基、‑烷基‑芳基、杂芳基和‑烷基‑杂芳基为未经取代的或经一个或多个选自以下的基团取代：卤素、烷基、卤代烷基、环烷基、卤素取代的环烷基、杂烷基、卤素取代的杂烷基、烷氧基、卤素取代的烷氧基、杂烷氧基和卤素取代的杂烷氧基；各R^6B如果存在，则独立地选自H、烷基、‑烷基‑OH、烯基、炔基、杂烷基、‑杂烷基‑OH、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、芳基、‑烷基‑芳基、杂芳基和‑烷基‑杂芳基，其中R^6B中的各所述烷基、‑烷基‑OH、烯基、炔基、杂烷基、‑杂烷基‑OH、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、芳基、‑烷基‑芳基、杂芳基和‑烷基‑杂芳基为未经取代的或经一个或多个选自以下的基团取代：卤素、烷基、卤代烷基、环烷基、卤素取代的环烷基、杂烷基、卤素取代的杂烷基、烷氧基、卤素取代的烷氧基、杂烷氧基和卤素取代的杂烷氧基；各R^7A、R^7B和R^7C如果存在，则独立地选自H、烷基、杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基，其中R^7A、R^7B和R^7C各所述烷基、杂烷基、‑杂烷基‑OH、环烷基、‑烷基‑环烷基、杂环烷基和‑烷基‑杂环烷基为未经取代的或经一个或多个卤素取代；各R⁸如果存在，则独立地选自卤素、低级烷基、低级杂烷基、低级烷氧基、低级环烷基和低级杂环烷基，其中R⁸中的各所述低级烷基、低级杂烷基、低级烷氧基、低级环烷基和低级杂环烷基任选地经卤素取代；和各R⁹如果存在，则独立地选自卤素、‑OH、‑CN、‑SF₅、‑OSF₅、烷基、‑烷基‑OH、杂烷基、‑杂烷基‑OH、烷氧基、‑O‑杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、‑O‑环烷基、‑O‑烷基‑环烷基、‑杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、‑O‑杂环烷基和‑O‑烷基‑杂环烷基，其中各所述烷基、‑烷基‑OH、杂烷基、‑杂烷基‑OH、烷氧基、‑O‑杂烷基、环烷基、‑烷基‑环烷基、‑O‑环烷基、‑O‑烷基‑环烷基、‑杂环烷基、‑烷基‑杂环烷基、‑O‑杂环烷基和‑O‑烷基‑杂环烷基任选地经一个或多个卤素取代。