[发明专利]含硅的两性离子线性共聚物组合物

摘要

一种含硅共聚物，其包括具有通式结构-N⁺(Y^-)(Z)-或-N(Z*)-的两性离子连接基团和重复基团，该重复基团能够是二价有机硅部分、二价烃或二价聚醚。该共聚物能够用于个人护理产品、肥料和其他农业产品、杀虫剂、防垢剂和各种水基涂料配制物中。代表性的个别实施方式如以下共聚物：其中：a+c大于1；a大于或等于0；b大于或等于0；n为3-6；d为0-约500；且X大于1；或者以下结构的共聚物：其中：a为0-约100；b为0-约100；c为0-约500；X大于或等于0；且Y大于或等于0使得X+Y大于0；或者以下结构的共聚物：其中：a为0-约100；b为0-约100；c为0-约500；X大于或等于0；且Y大于0。

主权项

一种含硅的线性共聚物，包括在该共聚物的主链中的重复单元以及至少一个具有以下通式结构的两性离子连接基团：其中：Y^‑是阴离子基团，独立地选自：‑(CR¹R²)_bCOO^‑；‑(CR³R⁴)_cSO^3‑；和‑(CR⁵R⁶)_dP(O)(OR⁷)O^‑，其中：R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶和R⁷独立地选自氢、包含1‑60个碳原子的一价有机基团，且可以包含杂原子，下标b为1‑60，c为3‑60，且d为3‑60；式(I)的Z为一价基团，独立地选自：a)包含1‑200个碳原子且可以包含杂原子的有机基团，b)氢，和c)由以下给出的有机硅基团M_eM^A_fM^S_gM^D_hD_iD^D_jT_kT^D_lQ_o  (III)其中：M＝R⁸R⁹R¹⁰SiO_1/2，M^A＝R¹¹R¹²R¹³SiR¹⁴，M^S＝R¹⁵_p(R¹⁶O)_qSiR¹⁷，M^D＝R¹⁸R¹⁹R²⁰SiO_1/2，D＝R²¹R²²SiO_2/2，D^D＝R²³R²⁴SiO_2/2，T＝R²⁵SiO_3/2，T^D＝R²⁶SiO_3/2，且Q＝SiO_4/2；其中：R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹⁸、R¹⁹、R²¹、R²²、R²³、R²⁴和R²⁵各自独立地选自具有1‑60个碳原子的一价烃基团，可任选包含杂原子；R¹¹、R¹²、R¹³、R¹⁵和R¹⁶独立地选自具有1‑20个碳原子的一价烃基团；R¹⁴、R¹⁷、R²⁰和R²⁶是包含1‑60个碳原子的线性或支化二价基团，且可以包含杂原子；下标f为0或1，限定条件为如果h为1，则e+g+i+j+k+l+o＝0；下标e、g、h、i、j、k和l为0或正数，且具有在约0‑10的范围内的值；下标p和q为0或正数，限定条件为如果g为正数，则p+q＝3；式(II)的Z*为具有以下通式结构的一价两性离子基团：‑XN⁺(R²⁷R²⁸)Y^‑，其中：X为具有2‑20个碳原子的二价有机基团，且任选包含杂原子；R²⁷和R²⁸是具有1‑20个碳原子的一价基团，且任选具有杂原子。