[发明专利]CMOS有源像素结构在审

专利信息
申请号: 201380068148.2 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN104885223A 公开(公告)日: 2015-09-02
发明(设计)人: Y·倪 申请(专利权)人: 新成像技术公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/355
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 法国韦里*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种CMOS有源像素结构,包括:第一类型的半导电衬底(1);至少一个以光伏模式操作的第一光电二极管,其包括由第二类型的掺杂区域所限定的光伏转换区域(2),该第二类型掺杂区域与衬底形成PN结,所述第一光电二极管将在所述第一光电二极管对光曝光期间由PN结收集的光电荷载子重新发射;至少一个以积分模式操作并且反向偏置的第二光电二极管,所述第二光电二极管包括由第二类型的掺杂区域所限定的电荷积累区域(3),该第二类型掺杂区域与衬底形成PN结,所述电荷积累区域暴露于来自光伏转换区域(2)的电荷载子,以便于积累这种电荷载子。
搜索关键词: cmos 有源 像素 结构
【主权项】:
一种CMOS类型的有源像素结构,包括:‑第一类型的半导体衬底(1),‑至少一个第一光电二极管,其配置为在所述第一光电二极管对辐照的曝光期间以光伏模式操作,所述第一光电二极管包括由第二类型的掺杂区域所限定的光伏转换区域(2),所述第二类型的掺杂区域与所述衬底形成PN结,所述第一光电二极管配置为将在所述第一光电二极管对辐照曝光期间由所述PN结捕获的光电荷载子重新发射;‑至少一个第二光电二极管,其配置为以积分模式操作,并且在所述第一光电二极管对辐照曝光期间反向偏置,所述第二光电二极管包括由第二类型的掺杂区域所限定的电荷积累区域(3),所述第二类型的掺杂区域与所述衬底形成PN结,所述电荷积累区域配置为暴露于源自所述光伏转换区域(2)的电荷载子,以便积累所述电荷载子;以及‑读出装置,其读取所述第一光电二极管的电压并且读取在第二光电二极管处的电荷测量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新成像技术公司,未经新成像技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380068148.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top