[发明专利]CMOS有源像素结构在审
申请号: | 201380068148.2 | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN104885223A | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | Y·倪 | 申请(专利权)人: | 新成像技术公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/355 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 法国韦里*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种CMOS有源像素结构,包括:第一类型的半导电衬底(1);至少一个以光伏模式操作的第一光电二极管,其包括由第二类型的掺杂区域所限定的光伏转换区域(2),该第二类型掺杂区域与衬底形成PN结,所述第一光电二极管将在所述第一光电二极管对光曝光期间由PN结收集的光电荷载子重新发射;至少一个以积分模式操作并且反向偏置的第二光电二极管,所述第二光电二极管包括由第二类型的掺杂区域所限定的电荷积累区域(3),该第二类型掺杂区域与衬底形成PN结,所述电荷积累区域暴露于来自光伏转换区域(2)的电荷载子,以便于积累这种电荷载子。 | ||
搜索关键词: | cmos 有源 像素 结构 | ||
【主权项】:
一种CMOS类型的有源像素结构,包括:‑第一类型的半导体衬底(1),‑至少一个第一光电二极管,其配置为在所述第一光电二极管对辐照的曝光期间以光伏模式操作,所述第一光电二极管包括由第二类型的掺杂区域所限定的光伏转换区域(2),所述第二类型的掺杂区域与所述衬底形成PN结,所述第一光电二极管配置为将在所述第一光电二极管对辐照曝光期间由所述PN结捕获的光电荷载子重新发射;‑至少一个第二光电二极管,其配置为以积分模式操作,并且在所述第一光电二极管对辐照曝光期间反向偏置,所述第二光电二极管包括由第二类型的掺杂区域所限定的电荷积累区域(3),所述第二类型的掺杂区域与所述衬底形成PN结,所述电荷积累区域配置为暴露于源自所述光伏转换区域(2)的电荷载子,以便积累所述电荷载子;以及‑读出装置,其读取所述第一光电二极管的电压并且读取在第二光电二极管处的电荷测量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新成像技术公司,未经新成像技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380068148.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:有机发光器件和显示装置
- 下一篇:功率模块用基板以及制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的