[发明专利]膜阵列的形成及其装置

摘要

一种包含两亲性分子的膜阵列使用包含限定区室阵列的支撑物的装置而形成。包含极性介质的体积提供于各个区室内并且提供含非极性介质的层延伸通过具有所述体积的开孔。极性介质流过所述支撑物以取代非极性介质并与所述体积接触形成层，在所述界面上形成含两亲性分子的膜。在所述装置的一种构造中，所述支撑物包含的分隔件含有内部部分和外部部分。所述内部部分限定其间无能够阻止包含容纳于邻近的内部凹陷内的极性介质的体积彼此接触的间隙的内部凹陷。所述外部部分从所述内部部分向外延伸并具有容许非极性介质流过所述基底的间隙。

主权项

1.一种形成包含两亲性分子的膜阵列的方法，所述方法包括：提供包含支撑物的装置，所述支撑物包含限定具有极性介质可以通过其引入的开孔的区室阵列的分隔件，所述分隔件包含内部部分和外部部分，所述内部部分限定其间无间隙的所述区室的内部凹陷，其中所述内部部分能够限制可以布置在邻近的内部凹陷内的含极性介质的体积相互接触，以及所述外部部分从所述内部部分向外延伸，并具有允许非极性介质通过间隙在所述区室之间流动的所述间隙；将极性介质和非极性介质布置于所述支撑物上以在各个区室内提供含极性介质的体积，从而使所述含极性介质的体积受限而不会接触在邻近区室中含极性介质的体积，而包含非极性介质的层延伸穿过所述支撑物中的开孔与所述含极性介质的体积接触；和将极性介质流动穿过所述支撑物中的开孔以取代非极性介质，并且形成延伸穿过所述支撑物中的开孔与所述含极性介质的体积接触的含极性介质的层，和在所述含极性介质的层与所述含极性介质的体积之间的界面上含两亲性分子的膜。