[发明专利]用于生产用于光学和热电装置的抗反射涂层的方法在审
申请号: | 201380068431.5 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN104884403A | 公开(公告)日: | 2015-09-02 |
发明(设计)人: | 塞巴斯蒂安·卡帕罗斯·希门尼斯;大卫·所罗门·莱维·科恩;马科斯·丹尼尔·扎耶特·苏斯;埃利克·卡斯特伦·埃利松多;大卫·埃拉尔门德罗·富恩特斯 | 申请(专利权)人: | 阿文戈亚太阳能新技术公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00;C01B33/14 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 李丙林;许洪洁 |
地址: | 西班牙*** | 国省代码: | 西班牙;ES |
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摘要: | 本发明涉及一种用于由醇盐型前体来生产抗反射涂层的溶胶-凝胶方法,随后可以将该涂层通过喷涂施加于玻璃或塑料基材。本发明还涉及已涂覆有所述抗反射材料的光学和热电装置。这种涂层增加了该涂层施加于其上的透明基材的透射率,其结果是它应用在高聚光型太阳能电池组件(HCPV)上,对于主透镜和辅助透镜二者,在常规的硅或在CSP管中是非常有用的。 | ||
搜索关键词: | 用于 生产 光学 热电 装置 反射 涂层 方法 | ||
【主权项】:
一种用于获得抗反射涂层的溶胶‑凝胶方法,包括以下步骤:a)通过混合式(I)的化合物与式(II)的化合物来制备溶液
其中R1、R2、R3和R4是直链的或支链的、相同的或不同的C1‑C6烷基基团;并且R5、R6、R7和R8是相同的或不同的,并选自直链的或支链的C1‑C6烷基基团或者直链的或支链的C1‑C6烷氧基基团,并且其中R5、R6、R7或R8中的至少一个基团是烷基基团;在包含水、C1‑C4醇和无机酸的介质中,使其在50到100℃之间的温度水解1至10小时,b)将天然油和非离子表面活性剂加入到在步骤(a)中获得的所述溶液中,使其在50到100℃之间的温度水解1至10小时。
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