[发明专利]光学元件、投影装置和光学元件的制造方法在审
| 申请号： | 201380068482.8 | 申请日： | 2013-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN104871043A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | 宫坂浩司;山下周一 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G03B21/00;G03B21/14;H04N5/74 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够使用湿蚀刻进行加工的、光的利用效率高的扩散板。通过提供具有下述特征的光学元件解决了所述技术问题。该光学元件的特征在于：在基材的表面形成有多个凹部，所述凹部具有由曲面形成的曲面部，多个所述凹部形成为：所述凹部的底部的位置在深度方向上为两个以上的不同的位置，在将所述基材的折射率设为n1、将所述基材的周围的介质的折射率设为n2、将向所述基材入射的光束的波长设为λ并且将多个所述凹部的底部的深度方向上的范围设为Δd的情况下，2/7≤|(n1－n2)×Δd|/λ≤10。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 投影 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学元件，其特征在于，在基材的表面形成有多个凹部，所述凹部具有由曲面形成的曲面部，多个所述凹部形成为：所述凹部的底部的位置在深度方向上为两个以上的不同的位置，在将所述基材的折射率设为n1、将所述基材的周围的介质的折射率设为n2、将向所述基材入射的光束的波长设为λ并且将多个所述凹部的底部的深度方向上的范围设为Δd的情况下，2/7≤|(n1－n2)×Δd|/λ≤10。
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