[发明专利]分子印迹聚合物和其作为去屑剂的用途在审
| 申请号： | 201380068510.6 | 申请日： | 2013-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN104870482A | 公开（公告）日： | 2015-08-26 |
| 发明（设计）人： | A.格雷亚夫斯;C.里博;F.曼弗雷;K.豪普特 | 申请（专利权）人： | 莱雅公司 |
| 主分类号： | C08F2/04 | 分类号： | C08F2/04;C08F20/60;C08F20/34;C08F26/08;A61K8/81;A61Q5/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 黄念;彭昶 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及通过聚合包含具有胺基的基础乙烯单体、包含至少2个可聚合乙烯不饱和度的交联剂、致孔溶剂和C14-C20脂肪酸的混合物获得的分子印迹聚合物。包含此类聚合物的化妆品组合物。使用此类聚合物防止和/或处理头皮屑的化妆方法。 | ||
| 搜索关键词： | 分子 印迹 聚合物 作为 去屑剂 用途 | ||
【主权项】：
用于制备分子印迹聚合物的方法，其包括聚合包含如下物质的混合物的第一步骤：i) 一种或多种具有胺基的碱性乙烯单体；ii) 一种或多种包含至少2个可聚合乙烯不饱和度的交联剂；iii) 一种或多种致孔溶剂；iv) 一种或多种C14‑C20脂肪酸，然后除去存在于从第一步骤获得的聚合物中的C14‑C20脂肪酸的第二步骤。
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