[发明专利]偏光掩膜在审
| 申请号： | 201380068569.5 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN105008970A | 公开（公告）日： | 2015-10-28 |
| 发明（设计）人： | 金信英;朴文洙;辛富建;尹赫 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;李海明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请涉及一种偏光掩膜和用于制造光学器件的设备和方法。通过本申请的方法制造的光学器件可包括光轴或光吸收轴连续变化的光学层。所述光学器件可用于在电子设备，如显示设备中调节光的性能，例如，或用于建筑物或汽车的窗户或遮光物，因此其可用于需要光轴或光吸收轴连续变化的各种目的。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 | ||
【主权项】：
一种偏光掩膜，其包含多个偏光线，所述多个偏光线包含依照第一方向彼此相邻设置的多个偏光区域，且依照垂直于所述第一方向的第二方向彼此相邻设置，至少一个所述偏光线包含透射轴彼此不同的偏光区域，以及至少两个所述偏光线具有彼此不同的平均透射轴。
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