[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201380069317.4 | 申请日： | 2013-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN104885010B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 大桥智也;木村茂雄;绪方裕斗 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 黄媛;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明的课题是提供在以丙二醇单甲基醚作为主成分的溶剂中的溶解性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。作为解决本发明课题的方法涉及一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1a)或式(1c)所示的结构单元、和下述式(1b)所示的结构单元的聚合物，以及含有超过50质量％的丙二醇单甲基醚的溶剂，上述式(1a)或式(1c)所示的结构单元与式(1b)所示的结构单元交替地排列(式(1a)和式(1b)中，Q表示亚苯基或亚萘基，m表示1或2，n各自独立地表示0或1。)。 |
||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1a)或式(1c)所示的结构单元、和下述式(1b)所示的结构单元的聚合物，以及含有超过50质量％的丙二醇单甲基醚的溶剂，所述聚合物中所述式(1a)或式(1c)所示的结构单元与式(1b)所示的结构单元交替地排列，![]()
式(1a)和式(1b)中，Q表示亚苯基或亚萘基，m表示1或2，n各自独立地表示0或1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学工业株式会社，未经日产化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380069317.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
