[发明专利]包括射束剂量和能量补偿的带电粒子加速器系统及用于其的方法有效
| 申请号： | 201380069531.X | 申请日： | 2013-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN104904324A | 公开（公告）日： | 2015-09-09 |
| 发明（设计）人： | 陈恭印;K·T·罗瑞埃利;D·A·郝里 | 申请（专利权）人： | 瓦润医药系统公司 |
| 主分类号： | H05H13/04 | 分类号： | H05H13/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 申发振 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种操作加速系统的方法包括向RF加速器中注入带电粒子，向加速器提供RF功率，并且对注入的带电粒子进行加速。加速的带电粒子可以撞击靶以产生辐射。RF功率至少部分基于系统的过往性能，以至少部分补偿剂量和/或能量不稳定性。控制器可以基于过往性能向电源提供补偿控制电压(“CCV”)，以向RF源提供补偿电力。可以在射束开启时期期间向电源提供减小的CCV，例如以指数形式减小的CCV。在射束关闭时期期间可以朝向最大值来增大要提供的CCV，例如以指数形式增大。可以由补偿电路和/或软件来配置控制器。还描述了系统。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 剂量 能量 补偿 带电 粒子 加速器 系统 用于 方法 | ||
【主权项】：
一种稳定化的射频(“RF”)加速器系统，包括：对带电粒子进行加速的RF加速器；耦合到所述加速器以向所述加速器提供RF功率的RF源；耦合到所述加速器以向所述加速器注入带电粒子的带电粒子源；耦合到所述RF源和所述带电粒子源以向所述RF源和所述带电粒子源提供电力的电源；以及控制所述电源运行的控制器，所述控制器被配置成向所述电源提供补偿控制电压；其中：由所述电源向所述RF源提供的电力至少部分基于所述补偿控制电压；并且所述补偿控制电压至少部分基于所述系统的过往性能。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦润医药系统公司，未经瓦润医药系统公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380069531.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
