[发明专利]纳米压印用光固化性组合物、及使用其的微细图案基板的制造方法在审
申请号: | 201380069813.X | 申请日: | 2013-12-20 |
公开(公告)号: | CN104937006A | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 藤川武;久保隆司;山本拓也 | 申请(专利权)人: | 株式会社大赛璐 |
主分类号: | C08G59/68 | 分类号: | C08G59/68;C08G59/24;H01L21/027 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供纳米压印用光固化性组合物,其通过薄薄涂布于基板并进行光照射可以迅速固化形成薄膜,固化收缩小,可将模具的微细的图案精度良好地转印。本发明的纳米压印用光固化性组合物包含下述成分(A)及成分(B)。成分(A):下述式(a-1)表示的化合物(式中,R1~R18表示氢原子、卤原子、任选含有氧原子或卤原子的烃基,或任选具有取代基的烷氧基。X表示单键或连接基团)。成分(B):具有氟代烷基氟磷酸阴离子的光阳离子聚合引发剂。 |
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搜索关键词: | 纳米 压印 用光 固化 组合 使用 微细 图案 制造 方法 | ||
【主权项】:
纳米压印用光固化性组合物,其包含下述成分(A)及成分(B),成分(A):下述式(a‑1)表示的化合物,
式中,R1~R18相同或不同,表示氢原子、卤原子、任选含有氧原子或卤原子的烃基、或任选具有取代基的烷氧基,X表示单键或连接基团,成分(B):具有氟代烷基氟磷酸阴离子的光阳离子聚合引发剂。
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C08 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08G 用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G59-00 每个分子含有1个以上环氧基的缩聚物;环氧缩聚物与单官能团低分子量化合物反应得到的高分子;每个分子含有1个以上环氧基的化合物使用与该环氧基反应的固化剂或催化剂聚合得到的高分子
C08G59-02 .每分子含有1个以上环氧基的缩聚物
C08G59-14 .用化学后处理改性的缩聚物
C08G59-18 .每个分子含有1个以上环氧基的化合物,使用与环氧基反应的固化剂或催化剂聚合得到的高分子
C08G59-20 ..以使用的环氧化合物为特征
C08G59-40 ..以使用的固化剂为特征
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