[发明专利]EUV反射镜和包括EUV反射镜的光学系统有效
| 申请号： | 201380070253.X | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN104919537B | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | T.希克坦兹;H-J.保罗;C.扎克齐克 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | EUV反射镜包括基板和施加在所述基板上的多层布置，所述多层布置对于具有来自极紫外范围(EUV)的波长λ的辐射有反射效应，并包含具有交替层的多个层对，所述交替层包含高折射率层材料和低折射率层材料。多层布置具有：周期性第一层组(LG1)，具有第一数目N1＞1的第一层对，所述第一层对布置在所述多层布置的辐射入射侧附近，并具有第一周期厚度P1；周期性第二层组(LG2)，具有第二数目N2＞1的第二层对，所述第二层对布置在所述第一层组和所述基板之间，并具有第二周期厚度P2；以及第三层组(LG3)，具有第三数目N3的第三层对，所述第三层对布置在所述第一层组和所述二层组之间。所述第一数目N1大于所述第二数目N2。所述第三层组具有平均第三周期厚度P3，所述平均第三周期厚度与平均周期厚度PM＝(P1+P2)/2偏差周期厚度差ΔP，其中所述周期厚度差ΔP基本上对应于四分之一波层的光学层厚度λ/4与所述第三数目N3和cos(AOIM)之乘积的商，其中，AOIM是设计所述多层布置所针对的平均入射角。 | ||
| 搜索关键词： | 多层布置 第一层 第三层 反射镜 基板 厚度差 交替层 低折射率层 高折射率层 光学系统 辐射 光学层 入射侧 入射角 波长 波层 二层 反射 施加 | ||
【主权项】：
EUV反射镜，包括：基板；以及施加在所述基板上的多层布置，所述多层布置对于具有来自极紫外范围的波长λ的辐射具有反射效应，并包含具有交替层的多个层对，所述交替层包含高折射率层材料和低折射率层材料；其中，所述多层布置具有：周期性第一层组，具有第一数目N1＞1的第一层对，所述第一层对布置在所述多层布置的辐射入射侧附近，并具有第一周期厚度P1；周期性第二层组，具有第二数目N2＞1的第二层对，所述第二层对布置在所述第一层组和所述基板之间，并具有第二周期厚度P2；以及第三层组，具有第三数目N3的第三层对，所述第三层对布置在所述第一层组和所述第二层组之间，其特征在于，所述第一数目N1大于所述第二数目N2，所述第三层组具有平均第三周期厚度P3，所述平均第三周期厚度与平均周期厚度PM＝(P1+P2)/2偏差一周期厚度差ΔP，其中所述周期厚度差ΔP基本上对应于四分之一波层的光学层厚度λ/4与所述第三数目N3和cos(AOIM)之乘积的商，其中，AOIM是设计所述多层布置所针对的平均入射角，其中，条件ΔP＝x*(λ/(N3cos(AOIM)))适用于所述周期厚度差ΔP，并且其中适用条件0.2≤x≤0.35。
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