[发明专利]氢分离膜以及制造氢分离膜的方法在审
| 申请号： | 201380070945.4 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN104918682A | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 朴锺洙;李信根;李春枎;李晟旭 | 申请（专利权）人： | 韩国ENERGY技术研究院 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;B01D69/12;B01D71/02;B01D69/02 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;安佳宁 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及氢分离膜以及制造所述氢分离膜的方法，所述氢分离膜用于抑制在多孔载体与基于钯的金属分离膜之间的扩散并赋予在多孔载体与基于钯的金属分离膜之间的优异的粘合特性。本发明的所述氢分离膜包括：金属材料或陶瓷材料的多孔载体；通过使用陶瓷材料以多个柱的形式在所述多孔载体上形成的缓冲层；以及在所述缓冲层上形成的用于分离氢的基于钯的金属分离膜。在所述情况下，所述缓冲层包含基于氧化物的陶瓷材料，其为MOy(M为Ti、Zr)其中氧的组成为1<y<2，或为Al2Oz其中氧的组成为2<z<3，并且可以以多个层的形式形成。 | ||
| 搜索关键词： | 分离 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
氢分离膜，其包括：多孔载体，其由金属或陶瓷材料制成；缓冲层，其由陶瓷材料制成并以多个柱的形式在所述多孔载体上形成，其中所述缓冲层由多个层形成；以及基于钯的金属分离膜，其在所述缓冲层上形成并能够分离氢。
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