[发明专利]用于制造砜聚合物膜的方法有效
申请号: | 201380071063.X | 申请日: | 2013-12-18 |
公开(公告)号: | CN104918985B | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | T.莫雷;H.陈;A.博雷特 | 申请(专利权)人: | 索尔维公司 |
主分类号: | C08J5/22 | 分类号: | C08J5/22;B01D71/68;B01D67/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周李军;林森 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制造砜聚合物膜的方法,包括以下步骤:(i)制备包含以下各项的砜聚合物溶液[溶液(SP)]:‑至少一种砜聚合物[聚合物(P)];‑包含以下各项的溶剂混合物[混合物(M)]:至少一种选自由具有式(Ide)的二酯和具有式(Iea)的酯‑酰胺组成的组的溶剂,并且任选地包含至少一种具有式(Ida)的二酰胺:R1‑OOC‑Ade‑COO‑R2(Ide);R1‑OOC‑Aea‑CO‑NR3R4(Iea);R5R6N‑OC‑Ada‑CO‑NR5R6(Ida),其中:R1和R2,彼此相同或不同,独立地选自由C1‑C20烃基组成的组;R3、R4、R5和R6,彼此相同或不同并且在每次出现时,独立地选自下组,该组由以下各项组成:氢、可能取代的C1‑C36烃基,应理解R3和R4可以是包括结合到其上的氮原子的环状部分的一部分,所述环状部分是可能取代的和/或可能包含一个或多于一个额外的杂原子,以及其混合物;Ade、Aea和Ada,彼此相同或不同,独立地是直链或支链的二价亚烷基基团以及任选地二甲亚砜(DMSO);(ii)将所述溶液(SP)加工为薄膜;(iii)将所述薄膜浸入非溶剂浴中。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 聚合物 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造砜聚合物膜的方法,包括以下步骤:(i)制备包含以下各项的砜聚合物溶液,即溶液(SP):‑至少一种砜聚合物,即聚合物(P);‑包含以下各项的溶剂混合物,即混合物(M):(a)二酯(I’de)中的至少一种和至少一种二酯(I″de),有或没有至少一种具有式(IIde)的二酯;或(b)酯酰胺(I′ea)中的至少一种和至少一种酯酰胺(I″ea),有或没有至少一种具有式(IIea)的酯酰胺;或(c)酯酰胺(I′ea)的至少一种、至少一种二酰胺(I′da)、至少一种酯酰胺(I″ea)以及至少一种二酰胺(I”da),有或没有至少一种具有式(IIea)的酯酰胺和/或至少一种具有式(IIda)的二酰胺;或(d)(a)与(b)和/或(c)的组合,其中:‑(I′de)是R1‑OOC‑AMG‑COO‑R2‑(I′ea)是R1‑OOC‑AMG‑CO‑NR3R4‑(I′da)是R5R6N‑OC‑AMG‑CO‑NR5R6‑(I″de)是R1‑OOC‑AES‑COO‑R2‑(I″ea)是R5R6N‑OC‑AES‑CO‑NR5R6;并且‑(IIde)是R1‑OOC‑(CH2)4‑COO‑R2,‑(IIea)是R1‑OOC‑(CH2)4‑CO‑NR3R4,‑(IIda)是R5R6N‑OC‑(CH2)4‑CO‑NR5R6,其中:‑AMG具有式MGa,即‑CH(CH3)‑CH2‑CH2‑或MGb,即‑CH2‑CH2‑CH(CH3)‑,‑AES具有式ESa,即‑CH(C2H5)‑CH2‑或ESb,即‑CH2‑CH(C2H5)‑;并且其中R1和R2,彼此相同或不同,独立地选自由C1‑C20烷基、C6‑C20芳基组成的组;‑R3、R4、R5和R6,彼此相同或不同并且在每次出现时,选自由以下各项组成的组:C1‑C20烷基、C6‑C20芳基,所有所述基团不含取代基或包含一个或多于一个取代基,没有杂原子或具有一个或多于一个杂原子,以及包含(1)R3和R4或者R5和R6以及(2)R3和R4或者R5和R6所结合的氮原子二者的环状部分,所述环状部分不含杂原子或包含一个或多于一个杂原子,该杂原子是氧原子或附加的氮原子,并且该溶液还包含或不含二甲亚砜(DMSO);(ii)将所述溶液(SP)加工为薄膜;(iii)将所述薄膜浸入非溶剂浴中。
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