[发明专利]用于半导体处理的掩膜对准系统

摘要

一种用于在离子注入掩模与工件之间提供精确且可重复的对准的掩模对准系统。所述系统包含掩模框架，掩模框架具有松散地连接到掩模框架的多个离子注入掩模。掩模框架设有多个框架对准空腔，且每一掩模设有多个掩模对准空腔。所述系统还包含用于固持工件的压板。压板可设有多个掩模对准销和框架对准销，多个掩模对准销和多个框架对准销经配置以分别啮合掩模对准空腔和框架对准空腔。掩模框架可降低到压板上，其中框架对准空腔移动成与框架对准销对齐以在掩模与工件之间提供粗略对准。掩模对准空腔可接着移动成与掩模对准销对齐，进而将每一个别掩模移位成与相应工件精确对准。

主权项

一种掩模对准系统，包括：掩模框架，具有形成在其中的多个框架对准空腔；掩模，可移动地连接到所述掩模框架，所述掩模具有形成在其中的多个掩模对准空腔；以及压板，具有从所述压板延伸的多个掩模对准销，所述多个掩模对准销经配置以啮合所述掩模对准空腔，所述压板还具有从所述压板延伸的多个框架对准销，所述多个框架对准销经配置以啮合所述框架对准空腔。