[发明专利]激光退火装置、半导体装置的制造方法

摘要

本发明所涉及的激光退火装置的特征在于，具有：载置台，其载置被加热物；第1激光元件，其放射第1连续激光；第1光学系统，其将该第1连续激光向该被加热物引导，在该被加热物上形成第1照射区域；第2激光元件，其放射与该第1连续激光相比波长较短的第2连续激光；第2光学系统，其将该第2连续激光向该被加热物引导，在该被加热物上形成第2照射区域；以及系统控制器，其以下述方式使该第1照射区域和该第2照射区域进行扫描，即，针对该被加热物的各部分，在该第2照射区域进行扫描前，该第1照射区域的至少一部分进行扫描。

主权项

1.一种激光退火装置，其特征在于，具有：载置台，其载置被加热物；第1激光元件，其放射第1连续激光；第1光学系统，其将所述第1连续激光向所述被加热物引导，在所述被加热物上形成第1照射区域；第2激光元件，其放射与所述第1连续激光相比波长较短的第2连续激光；第2光学系统，其将所述第2连续激光向所述被加热物引导，在所述被加热物上形成第2照射区域；系统控制器，其以下述方式使所述第1照射区域和所述第2照射区域进行扫描，即，针对所述被加热物的各部分，在所述第2照射区域进行扫描前，所述第1照射区域的至少一部分进行扫描；第4激光元件，其放射与所述第1连续激光相比波长较短的第4连续激光；以及第4光学系统，其将所述第4连续激光向所述被加热物引导，在所述被加热物上形成第4照射区域，所述系统控制器以下述方式使所述第4照射区域进行扫描，即，针对所述被加热物的各部分，在所述第2照射区域进行扫描后，所述第4照射区域进行扫描。