[发明专利]用于减少反应器系统中的腐蚀的系统和方法有效
| 申请号： | 201380074837.4 | 申请日： | 2013-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN105264048B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | R·T·克里 | 申请（专利权）人： | 英派尔科技开发有限公司 |
| 主分类号： | B01J3/00 | 分类号： | B01J3/00;C10G7/10;C10G75/00;C02F1/02 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所11313 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于减少或消除超临界水气化系统的组件腐蚀的系统和方法。特别地，超临界水气化处理可配置为具有一系列阶段，其中控制流体的温度和压力以将流体的离子产物保持在阈值水平以下。这样，在超临界水气化处理过程中流体中腐蚀性离子的形成减少，因为流体不能达到腐蚀性离子形成所需的临界离子产物。另外，在流体温度升高至转换温度之前，可以在盐沉淀阶段从流体中去除无机盐。如此，在超临界水气化处理的后续阶段期间，在流体内存在较少的可用于形成腐蚀性离子的盐，例如无机盐。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 减少 反应器 系统 中的 腐蚀 方法 | ||
【主权项】：
一种超临界水气化处理的方法，包括：将具有水的浆料提供给多个系统组件中的至少一个系统组件；在保持所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的压力处于第一压力或者低于所述第一压力的同时，使所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的温度升高至第一温度；在所述第一温度，使所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的压力升高至第二压力；在第一时间段内保持所述第一温度和所述第二压力；使所述多个系统组件中的至少一个系统组件中的温度和压力分别升高至第二温度和第三压力；以及在第二时间段内保持所述第二温度和第三压力。
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