[发明专利]显示装置用基板、显示装置用基板的制造方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201380076129.4 申请日: 2013-09-11
公开(公告)号: CN105164558B 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 山口直也;佐藤梓实;森田贵之 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 戚宏梅,杨谦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的显示装置用基板具备透明基板和黑矩阵,该黑矩阵是在所述透明基板上依次层积反射率降低层和作为遮光性色材的主材而含有碳的遮光层而形成的,所述反射率降低层的膜厚处于约0.1μm以上0.7μm以下的范围,关于所述反射率降低层,将膜厚和每单位膜厚的光学浓度相乘而得到的有效光学浓度处于约0以上0.4以下的范围,经由所述透明基板而测定到的所述黑矩阵的反射率以铝膜的反射率为基准而处于约0.05%以上0.3%以下的范围。
搜索关键词: 显示装置 用基板 制造 方法
【主权项】:
一种显示装置用基板,其中,该显示装置用基板具备透明基板和黑矩阵,该黑矩阵是在所述透明基板之上依次层叠具有0.1μm以上0.7μm以下的范围的膜厚的反射率降低层、以及作为遮光性色材的主材而含有碳的遮光层而形成的,所述反射率降低层由所述膜厚和每单位膜厚的光学浓度相乘得到的有效光学浓度处于0以上0.4以下的范围的透明树脂层构成,所述遮光层在将所述反射率降低层半固化后,层叠在所述反射率降低层上而形成,经由所述透明基板而测定到的所述黑矩阵的反射率,以铝膜的反射率为基准,在光的波长分别为430nm、540nm、620nm的情况下,处于0.05%以上0.3%以下的范围。
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