[发明专利]一种微流控装置及控制其流体流动的方法有效

专利信息
申请号: 201380076986.4 申请日: 2013-05-27
公开(公告)号: CN105682802B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 龚海庆 申请(专利权)人: 星阵私人有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙)11367 代理人: 谢亮
地址: 新加坡余东旋*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于疾病检测和分析的微流控装置(100)。所述微流控装置(100)包括一个基底上具有至少一个孔(110)的部件(102),所述至少一个孔与一个相邻的空间(112)流体沟通,所述空间与至少一个通道(114、118)流体沟通;一个与所述至少一个通道耦合的真空发生装置(108)。所述真空发生装置被配置为在所述微流控装置的第一和第二区分别产生第一和第二绝对压强,它们中的任意一个均低于大气压,其中第一绝对压强高于第二绝对压强,因此在所述微流控装置的第一和第二区之间产生了气压差以控制流体通过所述装置内空间的流动速度,用于逐渐地填满所述至少一个孔和/或促进保留在所述至少一个孔中放置的任何材料。控制流体流动也防止了预先载入孔中的特异生物和/或化学物质的交叉污染。公开了一个相关的热循环仪和方法。
搜索关键词: 一种 微流控 装置 控制 流体 流动 方法
【主权项】:
一种微流控装置,其特征在于:包括:一个基底上具有至少一个孔的部件,所述至少一个孔与一个相邻的空间流体沟通,所述空间与至少一个通道流体沟通;和一个与所述至少一个通道耦合的真空发生装置,其中所述真空发生装置被配置为在该微流控装置的第一和第二区分别产生第一和第二绝对压强,它们中的任意一个均比大气压低,其中第一绝对压强高于第二绝对压强,因此在该微流控装置的第一和第二区之间产生了压差以控制流体流动通过该微流控装置的空间的速度,用于逐渐地填满所述至少一个孔和/或促进保留在所述至少一个孔中放置的任何材料,所述真空发生装置包括至少两个协同式设置的真空发生器以产生压差,第一真空发生器的进气管转向经通气口与第一真空源耦合,第二真空发生器的进气口转向经通气口与第二真空源耦合,分离的所述第一真空源和第二真空源分别地耦合到所述第一真空发生器和第二真空发生器,而不是所述第一真空发生器和第二真空发生器与一个单一的共同的真空源耦合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于星阵私人有限公司,未经星阵私人有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380076986.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top