[发明专利]具有印模结构的印模及其制造装置和方法有效
| 申请号： | 201380077203.4 | 申请日： | 2013-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN105378562B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | D.特赖布尔迈尔 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘维升;林森 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 奥地利;AT |
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| 摘要： | 本发明涉及制造用于在基底或软印模上施加微‑和/或纳米结构的具有印模结构的结构印模的方法，其中所述印模结构至少部分地用涂层涂覆。另外，本发明涉及相应的结构印模以及制造用于在基底或软印模上施加微‑和/或纳米结构的具有印模结构的结构印模的装置，其中所述装置具有用于涂覆所述印模结构的涂覆工具。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 印模 结构 及其 制造 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.制造用于将微米结构和/或纳米结构压印到压印物料中的具有印模结构的压印印模的方法，其中所述压印印模是软印模并能够通过该软印模的弯曲而从压印物料脱模，其中所述印模结构用涂层涂覆，其中所述涂层对于用于固化压印物料的UV光是透明的，其中所述涂层的表面粗糙度小于1 μm，和其中使用以下材料/材料类别中的至少一种作为用于涂覆所述印模结构的涂层材料：● 金属● 半导体材料● 陶瓷● 玻璃。
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