[发明专利]具有多个光源的扫描光学系统有效
| 申请号： | 201380078549.6 | 申请日： | 2013-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN105408799B | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | T·热格洛茨;C·多尼茨基 | 申请（专利权）人： | 视乐有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/10 | 分类号： | G02B26/10;G01B9/00;A61B5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 申发振 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 在实施方案中，一种扫描光学系统包括：第一光源和第二光源(22、32)，其用于分别提供光辐射的第一光束和第二光束(18、20)；偏转器装置(42)，其设置来接收和偏转所述第一光束和所述第二光束，所述偏转器装置被配置来用于对横穿所述偏转器装置的辐射的光束进行扫描操作；其中所述第一光束(18)以第一取向入射到所述偏转器装置(42)上且所述第二光束(20)以不同于所述第一取向的第二取向入射到所述偏转器装置(42)上。 | ||
| 搜索关键词： | 偏转器装置 取向 光源 扫描光学系统 入射 偏转 光辐射 扫描操作 横穿 辐射 配置 | ||
【主权项】：
1.一种扫描光学系统，其特征在于包括：多个光源(22、32)，每个光源都被配置来提供光辐射的光束；偏转器装置(42)，其设置来接收和偏转由所述光源提供的光束，所述偏转器装置被配置来用于对横穿所述偏转器装置的辐射的光束进行扫描操作来扫描目标，其中由所述光源提供的光束包括以第一取向入射到所述偏转器装置(42)上的第一光束(18)和以第二取向入射到所述偏转器装置(42)上的第二光束(20)，其中所述第一取向不同于所述第二取向；多个干涉测量装置，被配置来通过在从所述目标反向散射的辐射和从由所述光源提供的所述光束中的至少一个获得的参考辐射之间建立干扰来光学地分析所述目标；和控制计算机，被配置为控制所述偏转器装置来：在第一测量装置的操作期间执行所述扫描操作；和在第二测量装置的操作期间不启动所述扫描操作。
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