[发明专利]用于加热元件上的水垢防止的纳米结构化学机械抛光引起的活性纳米结构有效
| 申请号： | 201380079019.3 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN105874102B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | G·B·巴思木 | 申请（专利权）人： | 安兹耶因大学 |
| 主分类号： | C23F15/00 | 分类号： | C23F15/00;F24D19/00;H05B3/82 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 佘鹏;傅永霄 |
| 地址： | 土耳其伊*** | 国省代码： | 土耳其;TR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于液体材料的加热中的加热元件(1)。具体而言，本发明涉及一种加热元件(1)，其与液体接触地操作，并且包括纳米结构(30)，所述纳米结构(30)能够借助于自清洁的方法持续地防止加热区(10)中的水垢(20)的累积。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 加热 元件 水垢 防止 纳米 结构 化学 机械抛光 引起 活性 | ||
【主权项】：
1.一种与液体接触地操作的加热元件（1），所述加热元件的特征在于：基材，其具有表面（5），以及与水垢不同的热膨胀系数；处于所述基材的表面（5）上的受控的纳米结构（30），其中所述纳米结构（30）的粗糙度值在20nm和20μm之间；以及处于所述受控的纳米结构（30）上的纳米尺度的氧化膜，其中，具有所述纳米尺度的氧化膜的所述受控的纳米结构（30）使得形成在加热区（10）上的水垢（20）能够由于基材表面和水垢的界面（35）上的界面应力而破裂和剥离。
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