[发明专利]进气喷嘴在审
| 申请号： | 201380079414.1 | 申请日： | 2013-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN105517637A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | A.T.赫姆 | 申请（专利权）人： | 马里奥夫有限公司 |
| 主分类号： | A62C5/00 | 分类号： | A62C5/00;A62C31/02;A62C99/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李陵峰;张昱 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 一种喷嘴包括喷嘴壳体，所述喷嘴壳体限定第一流动路径，所述第一流动路径具有所述喷嘴壳体的第一端处的第一入口和所述喷嘴壳体的第二端处的第一出口。所述喷嘴壳体还限定第二流动路径，所述第二流动路径具有所述喷嘴壳体的外表面处的第二入口和限定所述第一流动路径的所述喷嘴壳体的侧壁中的第二出口，所述第二出口限定柯恩达轮廓并在所述第一流动路径周围具有环形形状。所述喷嘴壳体限定第三流动路径，所述第三流动路径具有所述喷嘴壳体的外侧表面处的第三入口和限定所述第一流动路径的所述侧壁中的第三出口，所述第三出口包括在所述第一流动路径周围以环形图案布置的多个孔。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种喷嘴，其包括：喷嘴壳体，所述喷嘴壳体限定：第一流动路径，所述第一流动路径具有所述喷嘴壳体的第一端处的第一入口和所述喷嘴壳体的第二端处的第一出口；第二流动路径，所述第二流动路径具有所述喷嘴壳体的外表面处的第二入口和限定所述第一流动路径的所述喷嘴壳体的侧壁中的第二出口，所述第二出口具有柯恩达轮廓并在所述第一流动路径周围具有环形形状；和第三流动路径，所述第三流动路径具有所述喷嘴壳体的外侧表面处的第三入口和限定所述第一流动路径的所述侧壁中的第三出口，所述第三出口包括周向布置在所述第一流动路径周围的多个孔。
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