[发明专利]同步加速器用注入器系统及同步加速器用注入器系统的运行方法有效
申请号: | 201380081176.8 | 申请日: | 2013-11-26 |
公开(公告)号: | CN105766068B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 山本和男;川崎定博;井上博光 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H05H13/04 | 分类号: | H05H13/04;A61N5/10;H05H9/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 陈力奕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的同步加速器用注入器系统包括产生第一离子的第一离子源;产生电荷质量比小于第一离子的电荷质量比的第二离子的第二离子源;具有能将第一离子和第二离子中的任一离子均进行加速的能力的预加速器;构成为将第一离子和第二离子中的任一离子注入至预加速器的低能量射束输送线路;及仅将从预加速器射出的加速后的第一离子进行加速的自聚焦型后加速器。 | ||
搜索关键词: | 同步 加速 器用 注入 系统 运行 方法 | ||
【主权项】:
一种同步加速器用注入器系统,该同步加速器用注入器系统将注入至同步加速器的离子射出,其特征在于,包括:第一离子源,该第一离子源产生第一离子;第二离子源,该第二离子源产生第二离子,所述第二离子的电荷质量比小于所述第一离子的电荷质量比;预加速器,该预加速器具有能将所述第一离子和所述第二离子中的任一离子均进行加速的能力;低能量射束输送线路,该低能量射束输送线路构成为将所述第一离子和所述第二离子中的任一离子注入至所述预加速器;以及自聚焦型后加速器,该自聚焦型后加速器仅将从所述预加速器射出的加速后的所述第一离子进行加速。
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