[发明专利]质量分析方法和质量分析装置有效
申请号: | 201380081237.0 | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN105793701B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 小林裕子;小仓泰郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的质量分析方法使用质量分析装置(2),该质量分析装置(2)在隔着使离子分裂的碰撞室(232)的前后具有质量分离部(231)、(234)。在通过对针对试样设定的前体离子进行产物离子扫描来选出与该前体离子对应的产物离子时,基于由使用者输入的与非选出离子有关的信息来设定质荷比的排除范围,从产物离子谱中在除所述排除范围以外的质荷比的范围内选出满足预先决定的基准的产物离子。根据本发明的质量分析方法,能够选出适于测量目标化合物的产物离子。 | ||
搜索关键词: | 质量 分析 方法 装置 以及 数据处理 程序 | ||
【主权项】:
1.一种质量分析方法,使用质量分析装置对针对试样设定的前体离子进行产物离子扫描,由此选出与该前体离子对应的产物离子,该质量分析装置在隔着使离子分裂的碰撞室的前后具有质量分离部,该质量分析方法的特征在于,a)基于由使用者输入的与非选出离子有关的信息来设定一个或多个质荷比;b)在通过产物离子扫描得到的产物离子谱中,在除所述一个或多个质荷比以外的范围内选出满足预先决定的基准的产物离子。
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