[发明专利]导模共振设备有效
| 申请号： | 201380081956.2 | 申请日： | 2013-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105899983B | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 劳伦·达瓦纳;纪尧姆·巴塞 | 申请（专利权）人： | 瑞士CSEM电子显微技术研发中心 |
| 主分类号： | G02B6/12 | 分类号： | G02B6/12;G02B5/20;G01N21/77;G06K19/16 |
| 代理公司： | 11270 北京派特恩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 姚开丽;王艳波 |
| 地址： | 瑞士纳*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种导模共振设备，包括：‑基板，‑波导，‑与所述波导关联的光栅结构，所述光栅结构布置到所述基板的入射表面，所述入射表面意在接收由至少一个光源提供的入射光束，所述入射光束具有相对于所述波导的法线限定的入射角，所述光栅结构包括至少一个基本结构，所述至少一个基本结构包括至少第一类型光栅结构和至少第二类型光栅结构，‑其中：‑所述波导布置为将光从第一类型光栅结构传递到第二类型光栅结构，并且还将光从第二类型光栅结构传递到第一类型光栅结构，‑所述第一类型光栅结构布置为出射耦合第一光束，‑所述第二类型光栅结构布置为出射耦合第二光束，‑所述第一光束具有与所述第二光束不同的光谱分布。 | ||
| 搜索关键词： | 共振 设备 | ||
【主权项】：
1.一种导模共振设备(1)，包括：/n-基板(10)，限定基板平面，/n-薄膜波导(30)，/n-与所述波导(30)关联的亚波长光栅结构，所述光栅结构布置到所述基板(10)的入射表面(12)，所述入射表面(12)意在接收由至少一个光源提供的入射光束(40)，所述入射光束(40)具有相对于所述波导(30)的法线限定的入射角，所述光栅结构包括至少一个基本共振光栅结构，所述至少一个基本共振光栅结构包括至少第一类型光栅结构(22)和至少第二类型光栅结构(24)，/n其中：/n-所述波导(30)布置为将光从第一类型光栅结构(22)传递到第二类型光栅结构(24)，并且还将光从第二类型光栅结构(24)传递到第一类型光栅结构(22)，/n-所述波导(30)由折射率比邻近波导(30)的与入射表面(12)相对一侧的材料的折射率高至少0.05的材料制成，/n-所述第一类型光栅结构(22)布置为将所述入射光束的第一部分(32)入射耦合到所述波导(30)中，/n-所述第二类型光栅结构(24)布置为将所述入射光束(40)的第二部分(34)入射耦合到所述波导(30)中，/n-所述第一类型光栅结构(22)布置为将所述入射光束的所述第二部分(34)的出射耦合部分从所述波导(30)耦合出来，所述出射耦合部分限定第一光束(42)，/n-所述第二类型光栅结构(24)布置为将所述入射光束(40)的所述第一部分(32)的出射耦合部分从所述波导(30)耦合出来，所述出射耦合部分限定第二光束(44)，/n-所述第一光束(42)和所述第二光束(44)中的每个具有相对于波导(30)的法线限定的出射耦合角，所述出射耦合角限定为使得所述第一光束和第二光束(44)相对于波导(30)的法线不对称于所述入射光束，且不平行于所述入射光束(40)，/n-所述第一光束(42)具有与所述第二光束(44)不同的光谱分布，/n-所述第一类型光栅结构(22)和所述第二类型光栅结构(24)具有不同的光栅周期和/或在所述基板平面中不同的光栅方向。/n
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