[其他]气体扩散组件、低温多晶硅处理腔室系统及令处理气体流入处理腔室的组件

摘要

本实用新型提供气体扩散组件、低温多晶硅处理腔室系统及令处理气体流入处理腔室的组件。本实用新型包括：背板，具有入口用以提供一处理气体至处理腔室；扩散板，包含数个开口用以允许处理气体流入处理腔室；阻隔板，设置于背板及扩散板之间，包含数个开口；以及至少一气流引导元件(guide)，设置于阻隔板及背板之间，适于引导该处理气体侧向地(laterally)流动。多个额外的特征被揭露。

主权项

一种气体扩散组件，包括：背板，具有入口用以提供处理气体至处理腔室；扩散板，包含数个开口，用以允许所述处理气体流入所述处理腔室；阻隔板，设置于所述背板及所述扩散板之间，所述阻隔板包含数个开口；以及至少一气流引导元件，设置于所述阻隔板及所述背板之间，适于引导所述处理气体侧向地流动。