[发明专利]一种镁及镁合金的镀层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410002018.5 申请日: 2014-01-02
公开(公告)号: CN103757614A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 李铸国;冯凯;郭兴伍;毛艳 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C23C18/18 分类号: C23C18/18;C23C18/36;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/35
代理公司: 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人: 郑立
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种镁及镁合金的镀层,镀层依次包括沉积在镁及镁合金表面的镍金属镀层、过渡层和主体镀层;过渡层为金属元素镀层,主体镀层为金属氮化物镀层或类石墨碳镀层;镍金属镀层通过化学镀镍技术沉积在镁及镁合金表面,过渡层通过物理气相沉积的方法沉积在镍金属镀层上,主体镀层通过物理气相沉积的方法沉积在过渡层上;镁及镁合金的镍金属镀层的厚度为1~100μm,镁及镁合金的过渡层和主体镀层的厚度为0.1~20μm。本发明大幅提高了镀层与镁及镁合金基体间的结合力和镀层本身的致密度,使得具有镀层的镁及镁合金具有优异的耐腐蚀性能和耐磨损性能。
搜索关键词: 一种 镁合金 镀层 及其 制备 方法
【主权项】:
一种镁及镁合金的镀层,其特征在于,所述镀层依次包括沉积在镁及镁合金表面的镍金属镀层、过渡层和主体镀层;所述过渡层为金属元素镀层,所述主体镀层为金属氮化物镀层或类石墨碳镀层;所述镍金属镀层通过化学镀镍技术沉积在镁及镁合金表面,所述过渡层通过物理气相沉积的方法沉积在所述镍金属镀层上,所述主体镀层通过物理气相沉积的方法沉积在所述过渡层上;所述镁及镁合金的镍金属镀层的厚度为1~100μm,所述镁及镁合金的过渡层和主体镀层的厚度为0.1~20μm。
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