[发明专利]发光装置、投影显示装置和发光系统在审

专利信息
申请号: 201410004778.X 申请日: 2014-01-06
公开(公告)号: CN103777450A 公开(公告)日: 2014-05-07
发明(设计)人: 吴震 申请(专利权)人: 吴震
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20;G03B21/14;F21V5/04;F21V13/02;F21V13/04;F21Y101/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 571138 海南*** 国省代码: 海南;66
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摘要: 发明提出一种发光装置和投影显示装置和发光系统,包括发光二极管光源,该发光二极管光源的发光面为矩形,矩形相邻的两个边的走向分别为x方向和y方向;还包括光收集透镜,用于收集发光二极管光源发出的光;该光收集透镜中至少包括一个光学曲面,该光学曲面在x方向的过光轴的截线和在y方向的过光轴的截线的形状不同,使得光收集透镜在x方向的焦距与在y方向的焦距不同。本发明的发光装置的出射光在两个相互垂直的方向上的放大倍数可以分别可控,这样出射光的长宽比就不受发光二极管光源的限制,而能够通过合理设计与其后端的光学系统相匹配以提高效率。
搜索关键词: 发光 装置 投影 显示装置 系统
【主权项】:
一种发光装置,其特征在于:包括发光二极管光源,该发光二极管光源的发光面为矩形,矩形相邻的两个边的走向分别为x方向和y方向;还包括光收集透镜,用于收集发光二极管光源发出的光;该光收集透镜中至少包括一个光学曲面,该光学曲面在x方向的过光轴的截线和在y方向的过光轴的截线的形状不同,使得光收集透镜在x方向的焦距与在y方向的焦距不同。
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