[发明专利]一种深紫外光学元件光学性能的综合测试方法有效

专利信息
申请号: 201410005252.3 申请日: 2014-01-06
公开(公告)号: CN103712782A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 李斌成 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 孟卜娟
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种深紫外光学元件光学性能的综合测试方法,采用激光量热技术测量深紫外光学元件的吸收损耗绝对值,采用激光诱导荧光光谱技术测量深紫外光学元件在深紫外激光照射下的荧光光谱,采用拉曼光谱技术测量深紫外光学元件材料的缺陷能级、掺杂组分及杂质的含量。通过测量深紫外光学元件在深紫外激光波长的吸收损耗特性、荧光光谱特性及拉曼光谱特性评估深紫外光学元件的综合光学性能,通过测量深紫外光学元件在深紫外激光照射过程中吸收损耗、荧光光谱和拉曼光谱的实时变化监测深紫外光学元件性能的稳定性。在同一测量装置中测量深紫外光学元件的光学特性参数和实时监测深紫外光学元件在深紫外激光照射过程中光学特性的变化。
搜索关键词: 一种 深紫 光学 元件 性能 综合测试 方法
【主权项】:
一种深紫外光学元件光学性能的综合测试方法,其特征在于步骤如下:步骤(1)、将一窄线宽深紫外重复脉冲激光器输出的激光束聚焦照射到一放置在绝热样品室内的深紫外光学元件表面中心位置附近,深紫外光学元件因吸收激光束能量导致温度上升,同时深紫外光学元件产生荧光发光和拉曼散射发光;所述的激光器线宽低于2pm、重复频率高于10Hz;步骤(2)、用一温度测量元件直接接触深紫外光学元件表面测量其温度变化,记录深紫外激光光束照射前、照射过程中、以及照射后,即冷却过程深紫外光学元件的温度变化信号ΔT(t),采用激光量热技术的数据处理方法处理温度变化信号ΔT(t)得到深紫外光学元件的吸收损耗值α0;步骤(3)、在绝热样品室内使用荧光收集光学系统收集深紫外光学元件在深紫外激光光束照射时产生的荧光,通过耦合光纤耦合进入光谱测量仪器测量深紫外光学元件产生的荧光强度及其光谱分布;记录深紫外激光光束照射过程中荧光信号随时间的实时变化曲线ΔF(t),由此得到深紫外光学元件荧光强度及光谱分布的实时变化情况;所述的光谱测量仪器由单色仪和光电探测单元组成;步骤(4)、在绝热样品室内使用另一散射光收集光学系统收集深紫外光学元件在深紫外激光光束照射时产生的拉曼散射光,通过耦合光纤耦合进入高分辨光谱测量仪器测量深紫外光学元件产生的拉曼散射光强度及其光谱分布;记录深紫外激光光束照射过程中拉曼散射光信号随时间的实时变化曲线ΔR(t),由此得到深紫外光学元件拉曼散射光强度及光谱分布的实时变化情况。
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