[发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制备方法、显示装置在审
申请号: | 201410008783.8 | 申请日: | 2014-01-08 |
公开(公告)号: | CN103760721A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 张家祥;郭建;姜晓辉;阎长江 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368;H01L27/12;H01L23/50;H01L21/84 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板及其制备方法、显示装置,用以解决了现有薄膜晶体管阵列基板制作工艺复杂的问题。本发明实施例的薄膜晶体管阵列基板包括多个像素单元,每个像素单元包括公共电极,该公共电极的图案为狭缝状,且该公共电极包括条状电极和狭缝,其中,该公共电极中的条状电极能够反射射入该条状电极的光线,且该公共电极中的狭缝能够透射射入该狭缝的光线。采用本发明提供的阵列基板,公共电极中的条状电极还可以作为该阵列基板的反射区域,且公共电极的狭缝可以作为该阵列基板的透射区域,从而实现了半透半反特性,由于仅需一次掩膜工艺即可制作出狭缝状的公共电极,从而简化了制作工艺。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管阵列基板,所述薄膜晶体管阵列基板包括多个像素单元,所述像素单元包括公共电极,其特征在于,所述公共电极的图案为狭缝状,且所述公共电极包括条状电极和狭缝,其中,所述公共电极中的条状电极能够反射射入该条状电极的光线,且所述公共电极中的狭缝能够透射射入该狭缝的光线。
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